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Artículo

Fouling Removal of UF Membrane with Coated TiO2 Nanoparticles under UV Irradiation for Effluent Recovery during TFT-LCD ManufacturingEliminación del ensuciamiento de la membrana UF con nanopartículas de TiO2 recubiertas bajo irradiación UV para la recuperación de efluentes durante la fabricación de TFT-LCD

Resumen

En este estudio se empleó un proceso de membrana de ultrafiltración (UF) para tratar el efluente secundario vertido por la fabricación de transistores de película fina y pantallas de cristal líquido (TFT-LCD). Se realizó un sistema a escala de banco para evaluar la eliminación de incrustaciones de una membrana de UF con nanopartículas de dióxido de titanio (TiO2) recubiertas bajo irradiación UV. La presión de funcionamiento y la temperatura de alimentación se controlaron a 300 KN/m2 y 25°C, respectivamente. Se comprobó que las condiciones óptimas de funcionamiento se alcanzaban con concentraciones de TiO2 de 10 wtor tanto de 5 KD como de 10 KD MWCO. La irradiación UV continua de 5 KD MWCO mejoró la tasa de flujo de permeado del 45,0% al 59,5 tras 4 horas de funcionamiento. El análisis SEM-EDS también mostró que el efecto fotocatalítico había reducido el espesor medio de la torta de incrustación en la membrana de 6,40 μm a 2,70 μm para 5 KD MWCO y de 6,70 μm a 3,1 μm para 10 KD MWCO. Además, el ángulo de contacto de la membrana se redujo de 54° a 44°. Al parecer, las propiedades fotocatalíticas del TiO2 aumentaron la hidrofilia de la superficie de la membrana, reduciendo así su ensuciamiento.

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