Los recubrimientos de dióxido de titanio (titania) y dióxido de titanio dopado se pueden depositar mediante un amplio abanico de técnicas. Este documento se concentra en aquellas agrupadas en la pulverización catódica con magnetrón (magnetron sputtering), las cuales incluyen la copulverización reactiva “convencional” a partir de múltiples objetivos metálicos y la recientemente introducida pulverización catódica con fuente de impulsos de alta potencia (high power impulse magnetron sputtering, HiPIMS). Se discute la deposición de recubrimientos por medio de estas técnicas, así como su caracterización empleando XRD, SEM, EXD, entre otros.
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