En resumen, este capítulo ofrece una comprensión general de la problemática del nuevo método examinado para el modelado superficial de polímeros. Para la modificación de la superficie se utilizó PMMA con diferentes pesos moleculares y polímero fotorresistente. Se analizó el mecanismo de creación de la estructura y se encontró que dependía del gradiente de tensión superficial introducido por escaneo con luz láser. También se dan aplicaciones de estructuras preparadas en fotónica como elementos de difracción o acoplador de guía de ondas.
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Página web:
ChemSep : Modelado de procesos de separación