Se han descrito intentos de depositar películas delgadas de dióxido de molibdeno (MoO2). La estructura electrónica de las películas, depositadas por evaporación térmica de polvo de MoO2, se ha investigado mediante fotoemisión ultravioleta y espectroscopia de fotoemisión de rayos X (UPS y XPS). Se observó que las películas evaporadas térmicamente eran similares a las películas de MoO3 evaporadas térmicamente en la fase inicial de deposición. El análisis XPS del polvo de MoO2 revela la presencia de 5 y 6 estados de oxidación en el nivel central 3d de Mo junto con el estado 4. El residuo de polvo de MoO2 indica una reducción sustancial de los estados de oxidación superiores, mientras que el estado de oxidación 4 se mantiene casi intacto. También se investigó la formación de interfase entre la cloroaluminioftalocianina (AlPc-Cl) y la película evaporada térmicamente.
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