Las células solares de capa fina de silicio microcristalino (μc-Si:H) se procesan sobre sustratos de vidrio con texturas superficiales a micro y nanoescala. La textura a microescala se realiza en la superficie del vidrio mediante el método de texturización inducida por aluminio (AIT), que es un proceso industrialmente viable que permite una amplia gama de tamaños de las características superficiales (es decir, 700 nm-3 μm) del vidrio texturizado. La textura a nanoescala se consigue mediante el grabado ácido convencional del óxido conductor transparente (TCO) depositado por pulverización catódica. La influencia de la "doble textura" resultante en la dispersión óptica se investiga mediante microscopía de fuerza atómica (AFM) (estudio de la topología de la superficie), mediciones de neblina (estudio de la dispersión en el aire) y mediciones de mejora de la corriente de cortocircuito (estudio de la dispersión en el silicio). La mejora de la eficiencia de la dispersión óptica prevista se demuestra experimentalmente mediante una mejora de la corriente de cortocircuito Δ I sc de hasta 1,6 mA/cm2 (7,7% de aumento relativo) en comparación con las células solares fabricadas en un superestrato estándar, es decir, vidrio plano cubierto con TCO nanotexturizado. La mejora de la longitud de autocorrelación (o tamaño de la característica) de los superestratos AIT podría tener un gran potencial para mejorar la eficiencia de las células solares de película delgada μc-Si:H, reduciendo la probabilidad de derivación del dispositivo y manteniendo al mismo tiempo un alto rendimiento de dispersión óptica.
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