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Effect of HPPMS Pulse-Frequency on Plasma Discharge and Deposited AlTiN Coating PropertiesEfecto de la frecuencia de los pulsos HPPMS en la descarga de plasma y en las propiedades del revestimiento de AlTiN depositado

Resumen

Los recubrimientos como el TiAlN (con un contenido de titanio superior al 50%) o el AlTiN (con un contenido de aluminio superior al 50%) están bien establecidos como recubrimientos de herramientas duros y resistentes al desgaste, a menudo preparados por deposición física de vapor (PVD) como la evaporación por arco o el sputtering de magnetrón de corriente continua (dcMS). Con los crecientes desafíos de las condiciones de funcionamiento, existe una necesidad constante de mejorar las propiedades mecánicas para soportar condiciones de carga extremas. Esto puede obtenerse mediante una mayor cantidad de átomos metálicos ionizados durante el proceso de deposición. Para aumentar el flujo de iones metálicos se ha desarrollado un pulso de pulverización magnetrónica de alta potencia (HPPMS). Para entender la relación entre los parámetros del proceso HPPMS y las propiedades mecánicas de los recubrimientos de AlTiN, el presente estudio analiza cómo las diferentes frecuencias de pulso (para una longitud de pulso constante) influyen en el crecimiento de la estructura del recubrimiento de AlTiN y en sus propiedades mecánicas. Además, la velocidad de deposición de la película y la formación de fases se ven influidas por la alteración de los parámetros del proceso, como la longitud y la frecuencia de los pulsos. Por lo tanto, diferentes frecuencias de pulso producen revestimientos específicos con las propiedades correspondientes para los requisitos funcionales. Sobre la base de los hallazgos establecidos, se requieren respuestas a nuevas preguntas científicas junto con la demanda de optimizar aún más estos recubrimientos para aplicaciones de herramientas.

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